电子器件2018，Vol.41Issue(6)：1372-1375,4.DOI:10.3969/j.issn.1005-9490.2018.06.004
硅基高精度镍铬薄膜电阻的制备和性能表征
Fabrication and Properties Characterization of Silicon-Based High Precision Nickel Chromium Film Resistors
摘要
关键词
系统集成/无源集成元件技术/镍铬薄膜电阻/多层薄膜电路工艺分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王强文,郭育华,刘建军,王运龙,宋夏..硅基高精度镍铬薄膜电阻的制备和性能表征[J].电子器件,2018,41(6):1372-1375,4.基金项目
装备预先研究项目(41423070115) （41423070115）
