硅酸盐学报2019，Vol.47Issue(1)：55-61,7.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.2019.01.08
退火温度对溅射法沉积Cu-Cr-O薄膜性能的影响
Effect of Annealing Temperature on Properties of Cu–Cr–O Thin Films Deposited by Sputtering Technology
摘要
关键词
铜-铬-氧薄膜/退火温度/薄膜结构/光电性能分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
赵学平,张铭,白朴存,侯小虎,刘飞,严辉..退火温度对溅射法沉积Cu-Cr-O薄膜性能的影响[J].硅酸盐学报,2019,47(1):55-61,7.基金项目
国家自然科学基金项目(11762014) （11762014）
内蒙古科技大学科学研究项目(ZY201808). （ZY201808）
