数字技术与应用2018，Vol.36Issue(11)：7-8,2.DOI:10.19695/j.cnki.cn12-1369.2018.11.04
单晶硅化学机械抛光的PLC控制系统设计
The Design of PLC Control System for Monocrystalline Silicon Chemical Mechanical Polishing
摘要
关键词
单晶硅/化学机械抛光/西门子PLCS7-200分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王昆,曲庆韬..单晶硅化学机械抛光的PLC控制系统设计[J].数字技术与应用,2018,36(11):7-8,2.基金项目
国家自然科学基金项目(No.51875413) （No.51875413）
