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磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状

RAO Senlin ZHANG Fayun LUO Yufeng XIONG Hanmeng LI Yunming HU Yun ZHANG Juan

铸造技术2019,Vol.40Issue(2):229-234,6.
铸造技术2019,Vol.40Issue(2):229-234,6.DOI:10.16410/j.issn1000-8365.2019.02.024

磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状

Application and Research Status on Silicon Crystal Growth Under Magnetic Field

RAO Senlin 1ZHANG Fayun 1LUO Yufeng 1XIONG Hanmeng 1LI Yunming 1HU Yun 1ZHANG Juan1

作者信息

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摘要

关键词

磁场/晶体硅/固液界面/熔体流动

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

RAO Senlin,ZHANG Fayun,LUO Yufeng,XIONG Hanmeng,LI Yunming,HU Yun,ZHANG Juan..磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状[J].铸造技术,2019,40(2):229-234,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51664047) (51664047)

江西省高等学校科技落地计划面上项目(KJLD12050) (KJLD12050)

江西省科技支撑计划面上项目(20123BBE50116) (20123BBE50116)

江西省教育厅科学技术研究项目(GJJ161200、GJJ161199) (GJJ161200、GJJ161199)

铸造技术

1000-8365

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