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聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光

杨正靳志伟陈建军饶先花尹韶云吴鹏

光学精密工程2019，Vol.27Issue(2)：302-308,7.

光学精密工程2019，Vol.27Issue(2)：302-308,7.DOI:10.3788/OPE.20192702.0302

Polishing method for polyimide membranes based on reactive ion etching

杨正 ¹靳志伟 ²陈建军 ¹饶先花 ²尹韶云 ¹吴鹏²

作者信息

抛光/聚酰亚胺/光刻胶/反应离子刻蚀

化学化工

杨正,靳志伟,陈建军,饶先花,尹韶云,吴鹏..聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光[J].光学精密工程,2019,27(2):302-308,7.

国家自然科学青年基金资助项目(No.61605208) （No.61605208）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1004-924X

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