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ECCP干法刻蚀条件下的TFT基板绝缘层过孔腐蚀的改善

邱鑫茂 廖加敏 伍蓉 付婉霞 吴洪江 王宝强 陈曦 李梁梁 刘耀 林鸿涛

液晶与显示2019,Vol.34Issue(2):119-124,6.
液晶与显示2019,Vol.34Issue(2):119-124,6.DOI:10.3788/YJYXS20193402.0119

ECCP干法刻蚀条件下的TFT基板绝缘层过孔腐蚀的改善

Improvement of via-hole corrosion in TFT substrate insulation under ECCP dry etching condition

邱鑫茂 1廖加敏 1伍蓉 1付婉霞 1吴洪江 1王宝强 1陈曦 1李梁梁 1刘耀 1林鸿涛2

作者信息

  • 1. 福州京东方光电科技有限公司,福建 福州 350300
  • 2. 北京京东方显示技术有限公司,北京 100176
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摘要

关键词

ECCP模式/过孔刻蚀/腐蚀改善

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

邱鑫茂,廖加敏,伍蓉,付婉霞,吴洪江,王宝强,陈曦,李梁梁,刘耀,林鸿涛..ECCP干法刻蚀条件下的TFT基板绝缘层过孔腐蚀的改善[J].液晶与显示,2019,34(2):119-124,6.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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