液晶与显示2019，Vol.34Issue(2)：125-129,5.DOI:10.3788/YJYXS20193402.0125
4-Mask工艺Cu腐蚀分析及改善研究
Research of Cu corrosion in 4-Mask process
白金超 1李小龙 1韩皓 1张向蒙 1左天宇 1吴祖谋 1丁向前 1宋勇志 1陈维涛1
作者信息
- 1. 北京京东方显示技术有限公司,北京 100176
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摘要
关键词
4-Mask/铜腐蚀/线不良分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
白金超,李小龙,韩皓,张向蒙,左天宇,吴祖谋,丁向前,宋勇志,陈维涛..4-Mask工艺Cu腐蚀分析及改善研究[J].液晶与显示,2019,34(2):125-129,5.
