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外部和内部因素对纳米晶合金kHz级饱和磁化过程影响的微磁学分析

韩智云 邹亮 伍珈乐 张黎 赵彤

电工技术学报2019,Vol.34Issue(8):1589-1598,10.
电工技术学报2019,Vol.34Issue(8):1589-1598,10.DOI:10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.L80436

外部和内部因素对纳米晶合金kHz级饱和磁化过程影响的微磁学分析

Micromagnetic Analysis of External and Internal Impact Factors on kHz Level Saturation Magnetization for Nanocrystalline Alloy

韩智云 1邹亮 1伍珈乐 2张黎 1赵彤1

作者信息

  • 1. 山东大学电气工程学院 济南 250061
  • 2. 广西电网有限责任公司南宁供电局 南宁 530029
  • 折叠

摘要

关键词

纳米晶合金/微磁学模拟/饱和磁化过程/磁矩偏转/磁化频率/直流偏置磁场晶粒尺寸

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

韩智云,邹亮,伍珈乐,张黎,赵彤..外部和内部因素对纳米晶合金kHz级饱和磁化过程影响的微磁学分析[J].电工技术学报,2019,34(8):1589-1598,10.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51307102). (51307102)

电工技术学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6753

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