表面技术2019，Vol.48Issue(4)：137-144,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.04.020
高功率脉冲和脉冲直流磁控共溅射CrAlN薄膜的研究
CrAlN Coatings Prepared by HiPIMS/Pulsed-DC Co-sputtering
摘要
关键词
高功率脉冲磁控溅射/脉冲直流磁控溅射/CrAlN薄膜/力学性能/磨擦磨损性能分类
矿业与冶金引用本文复制引用
郭玉垚,王铁钢,李柏松,刘艳梅,蒙德强,许人仁..高功率脉冲和脉冲直流磁控共溅射CrAlN薄膜的研究[J].表面技术,2019,48(4):137-144,8.基金项目
国家自然科学基金项目(51301181,51875555) （51301181,51875555）
天津市科技军民融合重大专项项目(18ZXJMTG00050) （18ZXJMTG00050）
中青年骨干创新人才培养计划项目(RC180203) （RC180203）
天津职业技术师范大学校级科研项目(KJ1812) （KJ1812）
研究生创新基金项目(YC18-02) （YC18-02）
