高电压技术2019，Vol.45Issue(5)：1360-1366,7.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20190430002
不同基底对等离子体射流放电及薄膜特性的影响
Effect of Different Substrates on Plasma Jet Discharge Characteristics and Thin Film Properties
摘要
关键词
等离子体射流/不同基底/射流发展过程/OH分布/薄膜特性引用本文复制引用
王瑞雪,张鹏浩,徐晖,章程,李挺,邵涛..不同基底对等离子体射流放电及薄膜特性的影响[J].高电压技术,2019,45(5):1360-1366,7.基金项目
国家自然科学基金(11575194 （）
51877205) （）
清华大学电力系统及大型发电设备安全控制和仿真国家重点实验室开放课题(SKLD17KM06). （SKLD17KM06）
