物理学报2019，Vol.68Issue(10)：82-88,7.DOI:10.7498/aps.68.20190067
MoO3/Si界面区钼掺杂非晶氧化硅层形成的第一性原理研究
First principle study of formation mechanism of molybdenum-doped amorphous silica in MoO3/Si interface
摘要
关键词
第一性原理/MoO3/Si界面反应/钼掺杂非晶氧化硅/形成能引用本文复制引用
陈东运,高明,李拥华,徐飞,赵磊,马忠权..MoO3/Si界面区钼掺杂非晶氧化硅层形成的第一性原理研究[J].物理学报,2019,68(10):82-88,7.基金项目
国家自然科学基金(批准号: 61874070, 61674099, 61274067)和索朗光伏材料与器件 R&D联合实验室基金 (批准号: SS-E0700601)资助的课题. （批准号: 61874070, 61674099, 61274067）
