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TFT-LCD HADS显示模式下黑白Mura机理研究及设计优化

郑箫逸 袁帅 崔晓鹏 林鸿涛 陈维涛 薛海林 邵喜斌

液晶与显示2019,Vol.34Issue(3):261-266,6.
液晶与显示2019,Vol.34Issue(3):261-266,6.DOI:10.3788/YJYXS20193403.0261

TFT-LCD HADS显示模式下黑白Mura机理研究及设计优化

Mechanism research and design optimization of black and white Mura in TFT-LCD HADS display mode

郑箫逸 1袁帅 1崔晓鹏 1林鸿涛 1陈维涛 1薛海林 1邵喜斌1

作者信息

  • 1. 北京京东方显示技术有限公司,北京 100176
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摘要

关键词

黑白Mura/对位偏移/氧化铟锡膜/电场/均一

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郑箫逸,袁帅,崔晓鹏,林鸿涛,陈维涛,薛海林,邵喜斌..TFT-LCD HADS显示模式下黑白Mura机理研究及设计优化[J].液晶与显示,2019,34(3):261-266,6.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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