人工晶体学报2019，Vol.48Issue(5)：846-853,8.
不同磁控溅射方式制备的C掺杂h-BN薄膜微观结构与导电性研究
Microstructure and Conductivity of the C Doped h-BN Thin Films Prepared by Different Magnetron Sputtering Methods
摘要
关键词
C掺杂h-BN薄膜/RF磁控溅射/IFBP磁控溅射/退火处理分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
姜思宇,熊芬,吴隽,祝柏林,郭才胜,姚亚刚,甘章华,刘静..不同磁控溅射方式制备的C掺杂h-BN薄膜微观结构与导电性研究[J].人工晶体学报,2019,48(5):846-853,8.基金项目
国家自然科学基金(51522211) （51522211）
中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02) （15QT02）
