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直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光

吕伟 刘俊 赵鹏宇 李健亮 李思达 沈龙海

发光学报2019,Vol.40Issue(6):719-724,6.
发光学报2019,Vol.40Issue(6):719-724,6.DOI:10.3788/fgxb20194006.0719

直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光

(002) Preferred Oriented AlN Films Grown by DC Magnetron Sputtering and Photoluminescence

吕伟 1刘俊 1赵鹏宇 1李健亮 1李思达 1沈龙海1

作者信息

  • 1. 沈阳理工大学 理学院,辽宁 沈阳 110159
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/择优取向/光致发光/缺陷发光

分类

数理科学

引用本文复制引用

吕伟,刘俊,赵鹏宇,李健亮,李思达,沈龙海..直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光[J].发光学报,2019,40(6):719-724,6.

基金项目

沈阳市科技局应用基础研究专项(F16-205-1-16) (F16-205-1-16)

辽宁省科技厅自然科学基金(201602647)资助项目 (201602647)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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