首页|期刊导航|材料科学与工程学报|氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响

氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响

杨勇甘治平马立云汪冰洁姚婷婷李刚金克武沈洪雪王天齐杨扬彭赛奥

材料科学与工程学报2019，Vol.37Issue(3)：417-422,6.

材料科学与工程学报2019，Vol.37Issue(3)：417-422,6.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.03.014

Effect of Annealing and N2 Flow Rate on Properties of N Doped TiO2 Films by RF Magnetron Sputtering

杨勇 ¹甘治平 ¹马立云 ¹汪冰洁 ¹姚婷婷 ¹李刚 ¹金克武 ¹沈洪雪 ¹王天齐 ¹杨扬 ¹彭赛奥¹

作者信息

氮掺杂二氧化钛薄膜/射频磁控溅射/沉积速率/禁带宽度

通用工业技术

杨勇,甘治平,马立云,汪冰洁,姚婷婷,李刚,金克武,沈洪雪,王天齐,杨扬,彭赛奥..氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响[J].材料科学与工程学报,2019,37(3):417-422,6.

安徽省重点研究与开发计划资助项目(1704a0902014,1704a0902010) （1704a0902014,1704a0902010）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1673-2812

访问量5

下载量0

段落导航