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基于硅各向同性腐蚀工艺的三维曲面壳体微谐振器制备技术

庄须叶 陈丙根 李平华 王新龙 曹卫达 丁景兵

光学精密工程2019,Vol.27Issue(6):1293-1300,8.
光学精密工程2019,Vol.27Issue(6):1293-1300,8.DOI:10.3788/OPE.20192706.1293

基于硅各向同性腐蚀工艺的三维曲面壳体微谐振器制备技术

Fabrication of microscale axial symmetric three-dimensional curved shell resonators based on silicon isotropic wet etching

庄须叶 1陈丙根 1李平华 1王新龙 1曹卫达 1丁景兵1

作者信息

  • 1. 华东光电集成器件研究所,安徽蚌埠233042
  • 折叠

摘要

关键词

微机电系统/3D工艺/硅各向同性腐蚀/壳体谐振器/轴对称

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

庄须叶,陈丙根,李平华,王新龙,曹卫达,丁景兵..基于硅各向同性腐蚀工艺的三维曲面壳体微谐振器制备技术[J].光学精密工程,2019,27(6):1293-1300,8.

基金项目

国家自然基金资助项目(No.51875585) (No.51875585)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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