物理学报2019，Vol.68Issue(11)：166-172,7.DOI:10.7498/aps.68.20182247
退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响
Effect of annealing temperature on structure and stress properties of Ta2O5/SiO2 multilayer reflective coatings
摘要
关键词
光学薄膜/Ta2O5/SiO2多层反射膜/退火/应力特性引用本文复制引用
刘保剑,段微波,李大琪,余德明,陈刚,王天洪,刘定权..退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响[J].物理学报,2019,68(11):166-172,7.基金项目
国家自然科学基金青年科学基金(批准号:61605229)和中国科学院上海技术物理研究所创新专项基金(批准号:CX-129)资助的课题. （批准号:61605229）
