物理学报2019，Vol.68Issue(14)：350-357,8.DOI:10.7498/aps.68.20190394
硫离子注入纳米金刚石薄膜的
微结构和电化学性能
Microstructural and electrochemical properties of sulfur ion implanted nanocrystalline diamond films
蒋梅燕 1朱政杰 1陈成克 1李晓 1胡晓君1
作者信息
- 1. 浙江工业大学材料科学与工程学院, 杭州 310014
- 折叠
摘要
关键词
纳米金刚石薄膜/硫离子注入/电化学性能/微结构引用本文复制引用
蒋梅燕,朱政杰,陈成克,李晓,胡晓君..硫离子注入纳米金刚石薄膜的
微结构和电化学性能[J].物理学报,2019,68(14):350-357,8.
