| 注册
首页|期刊导航|机械制造与自动化|TC4表面等离子沉积Al2 O3/MoS2涂层及性能分析

TC4表面等离子沉积Al2 O3/MoS2涂层及性能分析

杨凯 黄洁雯 刘杰 姜枫 郭凡 马存强

机械制造与自动化Issue(4):58-61,68,5.
机械制造与自动化Issue(4):58-61,68,5.DOI:10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2019.04.015

TC4表面等离子沉积Al2 O3/MoS2涂层及性能分析

Performance Analysis of Al2 O3/MoS2 Coating on TC4 Fabricated by CPED

杨凯 1黄洁雯 2刘杰 1姜枫 1郭凡 1马存强1

作者信息

  • 1. 首都航天机械有限公司,北京100076
  • 2. 南京理工大学 材料科学与工程学院,江苏 南京210094
  • 折叠

摘要

关键词

阴极等离子电解沉积/氧化铝/二硫化钼/复合涂层/摩擦学性能

分类

机械制造

引用本文复制引用

杨凯,黄洁雯,刘杰,姜枫,郭凡,马存强..TC4表面等离子沉积Al2 O3/MoS2涂层及性能分析[J].机械制造与自动化,2019,(4):58-61,68,5.

机械制造与自动化

OACSTPCD

1671-5276

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文