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一种高压PMOS器件低剂量辐照效应分析

高炜祺 刘虹宏

空间电子技术2019,Vol.16Issue(2):79-82,4.
空间电子技术2019,Vol.16Issue(2):79-82,4.DOI:10.3969/j.issn.1674-7135.2019.02.014

一种高压PMOS器件低剂量辐照效应分析

An Effect Analysis Induced by Low Dose Radiation Impact PMOS Transistor

高炜祺 1刘虹宏1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆400060
  • 折叠

摘要

关键词

高压PMOS器件/低剂量辐照/PMOS版图/漏源击穿电压

分类

航空航天

引用本文复制引用

高炜祺,刘虹宏..一种高压PMOS器件低剂量辐照效应分析[J].空间电子技术,2019,16(2):79-82,4.

空间电子技术

1674-7135

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