表面技术2019，Vol.48Issue(9)：53-63,11.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.09.004
高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜研究进展
Research Progress on Preparation of Amorphous Carbon Thin Films by High Power Impulse Magnetron Sputtering
摘要
关键词
高功率脉冲磁控溅射/非晶碳薄膜/放电特征/沉积速率/反应性磁控溅射/金属掺杂非晶碳薄膜分类
矿业与冶金引用本文复制引用
左潇,孙丽丽,汪爱英,柯培玲..高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜研究进展[J].表面技术,2019,48(9):53-63,11.基金项目
国家自然科学基金(11705258) （11705258）
中国科学院 A 类战略性先导科技专项(XDA22010303) （XDA22010303）
宁波市科技攻关 2025 重大项目(2018B10014) （2018B10014）
宁波市江北区重大科技项目(201801A03) （201801A03）
