高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜研究进展OA北大核心CSCDCSTPCD
Research Progress on Preparation of Amorphous Carbon Thin Films by High Power Impulse Magnetron Sputtering
非晶碳薄膜主要由sp3碳原子和sp2碳原子相互混杂的三维网络构成,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀以及化学稳定性等优异性能.然而传统制备方法难以实现薄膜结构及其性能的综合调控,高功率脉冲磁控溅射因其离子沉积特性受到领域内专家学者的关注.总结了近年来关于高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜材料的研究进展.重点介绍了高功率脉冲磁控溅射石墨靶的放电特性,指出了其在沉积非晶碳薄膜过程中获得高碳原子离化率的条件.针对离化率和沉积速率低,主要从提高碳原子离…查看全部>>
左潇;孙丽丽;汪爱英;柯培玲
中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中国科学院海洋新材料与应用技术 重点实验室 浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,浙江 宁波 315201中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中国科学院海洋新材料与应用技术 重点实验室 浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,浙江 宁波 315201中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中国科学院海洋新材料与应用技术 重点实验室 浙江省海洋材料与防护技术重点实验室,浙江 宁波 315201中国科学院大学 材料与光电研究中心,北京 100049
矿业与冶金
高功率脉冲磁控溅射非晶碳薄膜放电特征沉积速率反应性磁控溅射金属掺杂非晶碳薄膜
《表面技术》 2019 (9)
高功率脉冲磁控溅射的等离子体特性实验及数值研究
53-63,11
国家自然科学基金(11705258)中国科学院 A 类战略性先导科技专项(XDA22010303)宁波市科技攻关 2025 重大项目(2018B10014)宁波市江北区重大科技项目(201801A03)
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