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面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述

王磊杰 张鸣 朱煜 叶伟楠 杨富中

光学精密工程2019,Vol.27Issue(9):1909-1918,10.
光学精密工程2019,Vol.27Issue(9):1909-1918,10.DOI:10.3788/OPE.20192709.1909

面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述

Review of ultra-precision optical interferential grating encoder displacement measurement technology for immersion lithography scanner

王磊杰 1张鸣 1朱煜 1叶伟楠 1杨富中1

作者信息

  • 1. 清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京100084
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摘要

关键词

浸没式光刻机/光学干涉式光栅编码器/位移测量

分类

机械制造

引用本文复制引用

王磊杰,张鸣,朱煜,叶伟楠,杨富中..面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述[J].光学精密工程,2019,27(9):1909-1918,10.

基金项目

国家重大科技专项(02专项)资助项目(No.2017ZX02102004,No.2018ZX02101003) (02专项)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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