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低温铝诱导非晶硅晶化的热力学机理研究

张力元 杨雯 段良飞 杨培志 杜凯翔

云南师范大学学报(自然科学版)2019,Vol.39Issue(5):15-20,6.
云南师范大学学报(自然科学版)2019,Vol.39Issue(5):15-20,6.DOI:10.7699/j.ynnu.ns-2019-060

低温铝诱导非晶硅晶化的热力学机理研究

Thermodynamic Study on the Aluminum-induced Crystallization of Amorphous Silicon

张力元 1杨雯 2段良飞 1杨培志 1杜凯翔1

作者信息

  • 1. 云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650500
  • 2. 云南省科学技术院,云南昆明650051
  • 折叠

摘要

关键词

非晶硅薄膜/磁控溅射/铝诱导晶化/热力学机理/中间氧化层

分类

数理科学

引用本文复制引用

张力元,杨雯,段良飞,杨培志,杜凯翔..低温铝诱导非晶硅晶化的热力学机理研究[J].云南师范大学学报(自然科学版),2019,39(5):15-20,6.

基金项目

云南科技计划重点资助项目(2017FA024) (2017FA024)

国家自然科学基金云南联合基金资助项目(U1802257) (U1802257)

云南省高校科技创新团队支持计划资助项目. ()

云南师范大学学报(自然科学版)

OACSTPCD

1007-9793

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