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残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析

杨琛 李木军

机械与电子2019,Vol.37Issue(8):8-11,16,5.
机械与电子2019,Vol.37Issue(8):8-11,16,5.

残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析

The Finite Element Analysis on the Effect of Residual Layer on the UV Roll-to-roll Imprint Lithography

杨琛 1李木军1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系,安徽合肥230026
  • 折叠

摘要

关键词

紫外光滚动压印/脱模/残余层/数值仿真

分类

机械制造

引用本文复制引用

杨琛,李木军..残余层对紫外光滚动压印脱模质量影响的有限元分析[J].机械与电子,2019,37(8):8-11,16,5.

基金项目

国家自然科学基金(51475442) (51475442)

机械与电子

OACSTPCD

1001-2257

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