表面技术2019，Vol.48Issue(10)：157-162,171,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.10.019
磁控溅射CoCrFeNi高熵合金薄膜的硬度和电阻率研究
Hardness and Electrical Resistivity of Magnetron Sputtered CoCrFeNi High Entropy Alloy Films
摘要
关键词
磁控溅射/CoCrFeNi高熵合金薄膜/硬度/电阻率分类
矿业与冶金引用本文复制引用
谈淑咏,刘晓东,霍文燚,方峰,杜兴,皮锦红,王章忠..磁控溅射CoCrFeNi高熵合金薄膜的硬度和电阻率研究[J].表面技术,2019,48(10):157-162,171,7.基金项目
国家自然科学青年基金(51301087,51601089) （51301087,51601089）
江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室开放基金(ASMA201708) （ASMA201708）
南京工程学院校级科研基金项目资助(CKJB201701) （CKJB201701）
南京工程学院大学生科技创新基金(TB201902093) （TB201902093）
