| 注册
首页|期刊导航|材料科学与工程学报|Cr薄膜沉积速率对AlGaInP发光二极管电压的影响

Cr薄膜沉积速率对AlGaInP发光二极管电压的影响

肖和平 朱迪

材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(5):823-827,5.
材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(5):823-827,5.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.05.024

Cr薄膜沉积速率对AlGaInP发光二极管电压的影响

Effect of Cr Film Deposition Rate on Forward Voltage of AlGaInP Light-emitting

肖和平 1朱迪1

作者信息

  • 1. 扬州乾照光电有限公司,江苏 扬州 225101
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜沉积速率/金属薄膜/晶粒尺寸/残余应力/正向电压

分类

数理科学

引用本文复制引用

肖和平,朱迪..Cr薄膜沉积速率对AlGaInP发光二极管电压的影响[J].材料科学与工程学报,2019,37(5):823-827,5.

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文