火炸药学报2019，Vol.42Issue(5)：425-431,7.DOI:10.14077/j.issn.1007-7812.2019.05.001
原子层沉积技术在含能材料表面修饰中 的应用研究进展
Research Progress on Application of Atomic Layer Deposition in Surface Fabrication of Energetic Materials
摘要
关键词
应用化学/原子层沉积(ALD)/分子层沉积(MLD)/含能材料/表面性质/表面修饰分类
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秦利军,龚婷,闫宁,李建国,惠龙飞,郝海霞,冯昊..原子层沉积技术在含能材料表面修饰中 的应用研究进展[J].火炸药学报,2019,42(5):425-431,7.基金项目
装备预研重点实验室基金项目 （）
