液晶与显示2019，Vol.34Issue(9)：857-861,5.DOI:10.3788/YJYXS20193409.0857
Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl3气体作用研究
Role of BCl3 gas in Ti/Al/Ti dry etching process
李淳东 1李知勋 1陈兵 1刘杰 1吴国特 1苗占成1
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摘要
关键词
Ti/Al/Ti/干法刻蚀/BCl3/侧面保护/PR胶刻蚀速度分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
李淳东,李知勋,陈兵,刘杰,吴国特,苗占成..Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl3气体作用研究[J].液晶与显示,2019,34(9):857-861,5.
