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SiC/SiO2界面态电荷对SiC MOSFET短路特性影响的研究

周郁明 穆世路 蒋保国 王兵 陈兆权

电子科技大学学报2019,Vol.48Issue(6):947-953,7.
电子科技大学学报2019,Vol.48Issue(6):947-953,7.DOI:10.3969/j.issn.1001-0548.2019.06.021

SiC/SiO2界面态电荷对SiC MOSFET短路特性影响的研究

Research on the Impact of Trapped Charges at SiC/SiO2 Interface on the Short-circuit Performances of SiC MOSFET

周郁明 1穆世路 1蒋保国 1王兵 1陈兆权1

作者信息

  • 1. 安徽工业大学安徽省高校电力电子与运动控制重点实验室 安徽 马鞍山 243002
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摘要

关键词

载流子迁移率/电流应力/界面态电荷/泄漏电流/碳化硅MOSFET

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

周郁明,穆世路,蒋保国,王兵,陈兆权..SiC/SiO2界面态电荷对SiC MOSFET短路特性影响的研究[J].电子科技大学学报,2019,48(6):947-953,7.

基金项目

国家自然科学基金(11575003) (11575003)

电子科技大学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-0548

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