无机材料学报2019，Vol.34Issue(11)：1231-1237,7.DOI:10.15541/jim20190035
沉积温度及热处理对低压化学气相沉积氮化硅涂层的影响
Deposition Temperature and Heat Treatment on Silicon Nitride Coating Deposited by LPCVD
廖春景 1董绍明 2靳喜海 3胡建宝 2张翔宇 2吴惠霞2
作者信息
- 1. 上海师范大学 化学与材料科学学院, 上海 200234
- 2. 中国科学院 上海硅酸盐研究所,结构陶瓷与复合材料工程研究中心, 上海 200050
- 3. 中国科学院大学, 北京 100049
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摘要
关键词
氮化硅涂层/生长动力学/沉积温度/化学组成/热处理分类
化学化工引用本文复制引用
廖春景,董绍明,靳喜海,胡建宝,张翔宇,吴惠霞..沉积温度及热处理对低压化学气相沉积氮化硅涂层的影响[J].无机材料学报,2019,34(11):1231-1237,7.
