| 注册
首页|期刊导航|计算力学学报|多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用

多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用

乔楠 谢军 王强龙 刘震宇

计算力学学报2019,Vol.36Issue(6):721-726,6.
计算力学学报2019,Vol.36Issue(6):721-726,6.DOI:10.7511/jslx20181116001

多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用

Topology optimization with multiple displacement equality constraints and application in optoelectronic fine structure design

乔楠 1谢军 2王强龙 1刘震宇1

作者信息

  • 1. 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所,长春 130033
  • 2. 中国科学院大学 材料科学与光电技术学院,北京 100039
  • 折叠

摘要

关键词

位移等式约束/增广拉格朗日乘子/反作用力/拓扑优化/光电精密设备

分类

数理科学

引用本文复制引用

乔楠,谢军,王强龙,刘震宇..多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用[J].计算力学学报,2019,36(6):721-726,6.

基金项目

国家自然科学基金(51675506)资助项目. (51675506)

计算力学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-4708

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文