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金刚线切割多晶硅片表面减反射绒面的制备

刘友博 李利凯 汪雷 杨德仁

材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(6):867-870,4.
材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(6):867-870,4.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.06.002

金刚线切割多晶硅片表面减反射绒面的制备

Preparation of Anti-reflection Texture on Surface of Diamond-wire-sawing Multi-crystalline Silicon Wafers

刘友博 1李利凯 1汪雷 1杨德仁1

作者信息

  • 1. 浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验室,浙江 杭州 310027
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摘要

关键词

金刚线切割多晶硅片/减反射/线痕/酸雾腐蚀

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘友博,李利凯,汪雷,杨德仁..金刚线切割多晶硅片表面减反射绒面的制备[J].材料科学与工程学报,2019,37(6):867-870,4.

基金项目

浙江省重点研发计划资助项目(2018C01034),国家重点研发计划资助项目(2018YFB1500300),国家自然科学基金资助项目(51532007,61721005),中央高校基本科研业务费专项基金资助项目(2017FZA4005) (2018C01034)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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