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非晶CuNiSnO薄膜的生长与光电性能

程晓涵 吕建国 岳士录 吕容恺 陈凌翔 叶志镇

材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(6):876-879,4.
材料科学与工程学报2019,Vol.37Issue(6):876-879,4.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.06.004

非晶CuNiSnO薄膜的生长与光电性能

Growth and Optoelectronic Properties of Amorphous CuNiSnO Thin Films

程晓涵 1吕建国 1岳士录 1吕容恺 1陈凌翔 1叶志镇1

作者信息

  • 1. 浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验室,浙江 杭州 310027
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摘要

关键词

脉冲激光沉积/p型导电/非晶氧化物半导体/CuNiSnO/薄膜/生长温度

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

程晓涵,吕建国,岳士录,吕容恺,陈凌翔,叶志镇..非晶CuNiSnO薄膜的生长与光电性能[J].材料科学与工程学报,2019,37(6):876-879,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(91333203) (91333203)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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