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氩离子刻蚀对TFA-MOD法YBa2Cu3O7-x 薄膜性能的影响研究

罗志永 廖楚剑 蔡传兵 刘志勇 李敏娟 鲁玉明

无机材料学报2019,Vol.34Issue(12):1279-1284,6.
无机材料学报2019,Vol.34Issue(12):1279-1284,6.DOI:10.15541/jim20190102

氩离子刻蚀对TFA-MOD法YBa2Cu3O7-x 薄膜性能的影响研究

Argon Ion Etching on Property of YBa2Cu3O7-x Thin Films Prepared by TFA-MOD Process

罗志永 1廖楚剑 1蔡传兵 1刘志勇 1李敏娟 1鲁玉明1

作者信息

  • 1. 上海大学理学院,物理系,上海市高温超导重点实验室,上海 200444
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摘要

关键词

YBCO薄膜/杂质/刻蚀/超导性能

分类

化学化工

引用本文复制引用

罗志永,廖楚剑,蔡传兵,刘志勇,李敏娟,鲁玉明..氩离子刻蚀对TFA-MOD法YBa2Cu3O7-x 薄膜性能的影响研究[J].无机材料学报,2019,34(12):1279-1284,6.

基金项目

国家重点研发计划(2016YFF0101701) (2016YFF0101701)

上海市科学技术委员会(16521108400, 16DZ0504300, 14521102800) (16521108400, 16DZ0504300, 14521102800)

国家自然科学基金(51572165, 11174193 ) (51572165, 11174193 )

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-324X

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