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氮化硅膜层对TFT白点色度均匀性的影响及其改善

操彬彬 陆相晚 黄正峰 刘增利 廖伟经 李恒滨 叶成枝 安晖 马力 刘广东 吕艳明 彭俊林 杨增乾 栗芳芳

液晶与显示2019,Vol.34Issue(12):1166-1171,6.
液晶与显示2019,Vol.34Issue(12):1166-1171,6.DOI:10.3788/YJYXS20193412.1166

氮化硅膜层对TFT白点色度均匀性的影响及其改善

Research and improvement of TFT white color uniformity based on SiNx film

操彬彬 1陆相晚 1黄正峰 1刘增利 1廖伟经 1李恒滨 1叶成枝 1安晖 1马力 1刘广东 1吕艳明 1彭俊林 1杨增乾 1栗芳芳1

作者信息

  • 1. 合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥230001
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜晶体管/氮化硅薄膜/白点色度均匀性/折射率

分类

数理科学

引用本文复制引用

操彬彬,陆相晚,黄正峰,刘增利,廖伟经,李恒滨,叶成枝,安晖,马力,刘广东,吕艳明,彭俊林,杨增乾,栗芳芳..氮化硅膜层对TFT白点色度均匀性的影响及其改善[J].液晶与显示,2019,34(12):1166-1171,6.

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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