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TiN对热压烧结Si3N4-TiN复相陶瓷显微结构和力学性能的影响

魏万鑫 于俊杰 刘伟键 郭伟明 林华泰

硅酸盐学报2020,Vol.48Issue(3):375-380,6.
硅酸盐学报2020,Vol.48Issue(3):375-380,6.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.20190421

TiN对热压烧结Si3N4-TiN复相陶瓷显微结构和力学性能的影响

Effect of TiN Source on Microstructures and Mechanical Properties of Hot-pressed Si3N4-TiN Ceramics

魏万鑫 1于俊杰 1刘伟键 1郭伟明 1林华泰1

作者信息

  • 1. 广东工业大学机电工程学院,广州 510006
  • 折叠

摘要

关键词

氮化硅陶瓷/氮化钛来源/相组成/显微结构/力学性能

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

魏万鑫,于俊杰,刘伟键,郭伟明,林华泰..TiN对热压烧结Si3N4-TiN复相陶瓷显微结构和力学性能的影响[J].硅酸盐学报,2020,48(3):375-380,6.

基金项目

国家重点研发计划(2017YFB0310400). (2017YFB0310400)

硅酸盐学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0454-5648

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