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入射光照对典型光刻胶纳米结构的光学散射测量影响分析

董正琼 赵杭 朱金龙 石雅婷

物理学报2020，Vol.69Issue(3)：11-20,10.
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物理学报2020，Vol.69Issue(3)：11-20,10.DOI:10.7498/aps.69.20191525

入射光照对典型光刻胶纳米结构的光学散射测量影响分析

Influence of incident illumination on optical scattering measurement of typical photoresist nanostructure

董正琼 1赵杭 1朱金龙 2石雅婷2

作者信息

  • 1. 湖北工业大学,湖北省质量工程重点实验室,武汉 430068
  • 2. 华中科技大学,数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉 430074
  • 折叠

摘要

关键词

光学散射测量/光刻胶纳米结构/聚甲基丙烯酸甲酯/光学常数

引用本文复制引用

董正琼,赵杭,朱金龙,石雅婷..入射光照对典型光刻胶纳米结构的光学散射测量影响分析[J].物理学报,2020,69(3):11-20,10.

基金项目

湖北省自然科学基金(批准号:2018CFB290,2018CFB559)、中国博士后科学基金(批准号:2016M602269,2019M652633)和国家科技重大专项(批准号:2017ZX02101006-004)资助的课题. （批准号:2018CFB290,2018CFB559）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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