硅酸盐学报2020，Vol.48Issue(4)：491-498,8.DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.20190527
膜厚与紫外光辐照对反应溅射法制备的F掺杂SnO2薄膜结构与光电性能的影响
Effects of Thickness and Ultraviolet Irradiation on Structural, Optical and Electrical Properties of F-doped SnO2 Films Prepared by Reactive Sputtering
摘要
关键词
反应溅射/氟掺杂氧化锡薄膜/透明导电性能/紫外光辐照分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
祝柏林,宋肖肖,陶冶,易昌鸿,吴隽..膜厚与紫外光辐照对反应溅射法制备的F掺杂SnO2薄膜结构与光电性能的影响[J].硅酸盐学报,2020,48(4):491-498,8.基金项目
湖北省大学生创新创业训练计划项目(201610488042). （201610488042）
