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双阴极等离子沉积技术在TC4表面改性的应用

鲁青 汤亮

科技创新与应用Issue(7)：164-166,3.
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科技创新与应用Issue(7)：164-166,3.

双阴极等离子沉积技术在TC4表面改性的应用

鲁青 1汤亮1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学 机电工程学院,湖北 武汉 430000
  • 折叠

摘要

关键词

TC4表面改性/涂层/双阴极等离子溅射

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

鲁青,汤亮..双阴极等离子沉积技术在TC4表面改性的应用[J].科技创新与应用,2020,(7):164-166,3.

科技创新与应用

2095-2945

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