人工晶体学报2019，Vol.48Issue(12)：2186-2193,8.
95％Ar+5％H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响
Effect of Annealing in 95％Ar+5％H2 on the Morphology and Structure of Ag/MoS2 and Ag/BN/MoS2 Thin Films
摘要
关键词
Ag/MoS2/Ag/BN/MoS2/连续逐层沉积/95％Ar+5％H2退火分类
数理科学引用本文复制引用
熊芬,姜思宇,吴隽,耿仁杰,郭才胜,祝柏林,姚亚刚,刘静..95％Ar+5％H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响[J].人工晶体学报,2019,48(12):2186-2193,8.基金项目
中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02) （15QT02）
国家自然科学基金重点项目(51522211) （51522211）
