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还原氧化石墨烯中钾离子的电化学嵌入/脱出性能研究

赵强孙艳罗春晖闫康平

成都大学学报（自然科学版）2019，Vol.38Issue(4)：427-430,4.

成都大学学报（自然科学版）2019，Vol.38Issue(4)：427-430,4.DOI:10.3969/j.issn.1004-5422.2019.04.020

Intercalation/Deintercalation of K+ in Reduced-Graphene Oxide

赵强 ¹孙艳 ²罗春晖 ¹闫康平¹

作者信息

还原氧化石墨烯/钾离子/热还原/容量

信息技术与安全科学

赵强,孙艳,罗春晖,闫康平..还原氧化石墨烯中钾离子的电化学嵌入/脱出性能研究[J].成都大学学报（自然科学版）,2019,38(4):427-430,4.

四川省粉末冶金工程技术研究中心开放基金课题(SC-FMYJ2018-06)资助项目. （SC-FMYJ2018-06）

ISSN：1004-5422

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