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AlGaN/GaN高电子迁移率器件外部边缘电容的物理模型

刘乃漳 张雪冰 姚若河

物理学报2020,Vol.69Issue(7):271-279,9.
物理学报2020,Vol.69Issue(7):271-279,9.DOI:10.7498/aps.69.20191931

AlGaN/GaN高电子迁移率器件外部边缘电容的物理模型

The physics-based model of AlGaN/GaN high electron mobility transistor outer fringing capacitances

刘乃漳 1张雪冰 1姚若河1

作者信息

  • 1. 华南理工大学电子与信息学院,广州 510640
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摘要

关键词

HEMT/外部边缘电容/沟道长度调制效应/模型

引用本文复制引用

刘乃漳,张雪冰,姚若河..AlGaN/GaN高电子迁移率器件外部边缘电容的物理模型[J].物理学报,2020,69(7):271-279,9.

基金项目

国家重点研究计划(批准号:2018YFB1802100)资助的课题. (批准号:2018YFB1802100)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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