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AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管器件电离辐照损伤机理及偏置相关性研究

董世剑 钟向丽 欧阳晓平 郭红霞 马武英 吕玲 潘霄宇 雷志锋 岳少忠 郝蕊静 琚安安

物理学报2020,Vol.69Issue(7):288-297,10.
物理学报2020,Vol.69Issue(7):288-297,10.DOI:10.7498/aps.69.20191557

AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管器件电离辐照损伤机理及偏置相关性研究

Ionizing radiation damage mechanism and biases correlation of AlGaN/GaN high electron mobility transistor devices

董世剑 1钟向丽 1欧阳晓平 1郭红霞 2马武英 1吕玲 3潘霄宇 2雷志锋 2岳少忠 4郝蕊静 2琚安安3

作者信息

  • 1. 湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭 411105
  • 2. 西北核技术研究所,西安 710024
  • 3. 工业和信息化部电子第五研究所,电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室,广州 510610
  • 4. 西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安 710071
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摘要

关键词

AlGaN/GaN/高电子迁移率晶体管/总剂量/1/f低频噪声

引用本文复制引用

董世剑,钟向丽,欧阳晓平,郭红霞,马武英,吕玲,潘霄宇,雷志锋,岳少忠,郝蕊静,琚安安..AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管器件电离辐照损伤机理及偏置相关性研究[J].物理学报,2020,69(7):288-297,10.

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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