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等离子体处理对含脏污界面结合性能的影响

张若兵 孙丹 李爽

高电压技术2019,Vol.45Issue(12):4108-4114,7.
高电压技术2019,Vol.45Issue(12):4108-4114,7.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20191125040

等离子体处理对含脏污界面结合性能的影响

Influence of Plasma Processing on Bonding Properties of Polluted Interface

张若兵 1孙丹 1李爽1

作者信息

  • 1. 清华大学深圳研究生院,深圳518055
  • 折叠

摘要

关键词

硅橡胶/结合性能/复涂/附着力/等离子体射流

引用本文复制引用

张若兵,孙丹,李爽..等离子体处理对含脏污界面结合性能的影响[J].高电压技术,2019,45(12):4108-4114,7.

基金项目

国家自然科学基金(51677105) (51677105)

深圳市基础研究(学科布局)项目(JCYJ20180508152057527). (学科布局)

高电压技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1003-6520

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