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剔除非管理性因素影响的我国集成电路产业技术创新效率研究:基于广义三阶段DEA和Tobit模型

李宏宽 何海燕 单捷飞 蔡静静

管理工程学报2020,Vol.34Issue(2):60-70,11.
管理工程学报2020,Vol.34Issue(2):60-70,11.DOI:10.13587/j.cnki.jieem.2020.02.007

剔除非管理性因素影响的我国集成电路产业技术创新效率研究:基于广义三阶段DEA和Tobit模型

Research on technology innovation efficiency of China's IC industry eliminating the influence of non-operating factors: Analysis based on generalized GRA-DEA and tobit

李宏宽 1何海燕 2单捷飞 2蔡静静1

作者信息

  • 1. 北京理工大学 管理与经济学院,北京 100081
  • 2. 北京理工大学教育研究院,北京 100081
  • 折叠

摘要

关键词

集成电路产业/技术创新效率/广义三阶段DEA/Tobit回归模型/投影分析

分类

管理科学

引用本文复制引用

李宏宽,何海燕,单捷飞,蔡静静..剔除非管理性因素影响的我国集成电路产业技术创新效率研究:基于广义三阶段DEA和Tobit模型[J].管理工程学报,2020,34(2):60-70,11.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(71473017) (71473017)

国家科技资助重大专项(2016ZX02301003) (2016ZX02301003)

管理工程学报

OA北大核心CHSSCDCSCDCSSCICSTPCD

1004-6062

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