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氮化铝陶瓷金属化技术的探讨

高陇桥 崔高鹏 刘征

真空电子技术Issue(1):32-36,5.
真空电子技术Issue(1):32-36,5.DOI:10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2020.01.03

氮化铝陶瓷金属化技术的探讨

Discussion on Metallization Technology of AIN Ceramics

高陇桥 1崔高鹏 1刘征1

作者信息

  • 1. 北京真空电子技术研究所,北京100015
  • 折叠

摘要

关键词

电子陶瓷/陶瓷金属化/陶瓷敷铜板直接结合

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高陇桥,崔高鹏,刘征..氮化铝陶瓷金属化技术的探讨[J].真空电子技术,2020,(1):32-36,5.

真空电子技术

1002-8935

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