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光学元件表面离子束抛光过程边缘效应抑制

李晓静 王大森 王刚 张旭 张宁 裴宁 聂凤明 齐子诚

表面技术2020，Vol.49Issue(1)：349-355,7.
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表面技术2020，Vol.49Issue(1)：349-355,7.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.01.042

光学元件表面离子束抛光过程边缘效应抑制

Edge Effect Suppression of Ion Beam Figuring Process on Optical Component Surface

李晓静 1王大森 1王刚 2张旭 1张宁 3裴宁 1聂凤明 1齐子诚1

作者信息

  • 1. 中国兵器科学研究院宁波分院,浙江 宁波 315103
  • 2. 成都精密光学工程研究中心,成都 610041
  • 3. 长春理工大学 电子信息工程学院,长春 130022
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摘要

关键词

离子束抛光/光学元件/驻留时间/线性方程组模型/边缘效应/边缘延拓/面形误差

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

李晓静,王大森,王刚,张旭,张宁,裴宁,聂凤明,齐子诚..光学元件表面离子束抛光过程边缘效应抑制[J].表面技术,2020,49(1):349-355,7.

基金项目

国家科技重大专项(2017ZX04022001-205-001) （2017ZX04022001-205-001）

宁波市科技服务示范项目(2019F1036) （2019F1036）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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