安徽工程大学学报2019，Vol.34Issue(6)：28-32,45,6.
全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅
Fabrication of Silicon Grating by Holographic Lithography Combined with Reactive Ion Beam Etching
摘要
关键词
硅光栅/全息光刻/反应离子束刻蚀/驻波/感应耦合等离子体刻蚀分类
数理科学引用本文复制引用
郑衍畅,王铭,胡华奎,王雅楠,杨春来,王海..全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅[J].安徽工程大学学报,2019,34(6):28-32,45,6.基金项目
国家自然科学基金资助项目(11705001) （11705001）
安徽省自然科学基金资助项目(1808085QA12,1708085ME105) （1808085QA12,1708085ME105）
