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基于托卡马克装置内壁硼膜材料的制备及其性能研究

田小让 赵鑫 赵冠超 高志开 韩培德

化工学报2020，Vol.71Issue(5)：2413-2422,10.
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化工学报2020，Vol.71Issue(5)：2413-2422,10.DOI:10.11949/0438-1157.20200025

基于托卡马克装置内壁硼膜材料的制备及其性能研究

Systematic study on preparation and properties of boron film materials based on inner wall of Tokamak device

田小让 1赵鑫 2赵冠超 3高志开 3韩培德3

作者信息

  • 1. 中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点实验室,北京100083
  • 2. 中国科学院大学电子电气与通信工程学院,北京100049
  • 3. 新奥科技发展有限公司,河北廊坊065001
  • 折叠

摘要

关键词

硼膜/生长规律/制备工艺/抑制性能

分类

化学化工

引用本文复制引用

田小让,赵鑫,赵冠超,高志开,韩培德..基于托卡马克装置内壁硼膜材料的制备及其性能研究[J].化工学报,2020,71(5):2413-2422,10.

基金项目

国家重点研发计划项目(2018YFB1500500) （2018YFB1500500）

中科院联合基金项目(Y072051002) （Y072051002）

化工学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0438-1157

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