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氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

郭帅东 王广欣 李浩翔 孙浩亮 逯峙 唐坤

河南科技大学学报（自然科学版）2020，Vol.41Issue(4)：7-12,6.
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河南科技大学学报（自然科学版）2020，Vol.41Issue(4)：7-12,6.DOI:10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.04.002

氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

郭帅东 1王广欣 1李浩翔 2孙浩亮 3逯峙 4唐坤1

作者信息

  • 1. 河南科技大学 材料科学与工程学院,河南洛阳 471023
  • 2. 河南科技大学 河南省高纯材料及溅射靶材工程研究中心,河南洛阳 471023
  • 3. 河南科技大学 洛阳市高纯材料及溅射靶材重点实验室,河南洛阳 471023
  • 4. 广西大学动物科学技术学院,广西南宁 530004
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/扩散阻挡层/Ta-Ru-N/方块电阻

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

郭帅东,王广欣,李浩翔,孙浩亮,逯峙,唐坤..氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响[J].河南科技大学学报（自然科学版）,2020,41(4):7-12,6.

基金项目

国家自然科学基金项目(U1504516) （U1504516）

河南省高等学校重点科研基金项目(16A430016) （16A430016）

河南省高等学校学科创新引智基地基金项目 （）

河南科技大学学报（自然科学版）

OA北大核心CSTPCD

1672-6871

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